Клапауций (klapaucy) wrote,
Клапауций
klapaucy

Category:

Один раз, и то в праздничные дни

Тема микроэлектроники в моём журнале давно погребена под мегабайтами фотографий, но это не значит, что я её забросил :)))

Читаю тут один относительно старый диссер, 1997 года, на тему субмикронных технологий при литографии СБИС, в частности там раздел про технологию микросхем памяти на ЦМД. Кто-нибудь ещё помнит этих мастодонтов?

И натыкаюсь на совершенно шикарное:

"Начало разработки и изготовления МИС на ЦМД предусматривало использование контактной оптической фотолитографии. Как известно, для этого необходимо создание промежуточного фотошаблона (ПФО) с использованием оптических генераторов изображения. Первый эмульсионный ПФО слой пермаллоя для 256 Кбит изготавливался на импортной фотонаборной установке в масштабе 10:1. Время экспонирования составляло 83 часа.

ПФО удалось изготовить лишь один раз с большим трудом и то в праздничные дни, исключив сбои от помех в сети."

Это про советские времена, если что. Начало разработки ЦМД, по моим оценкам - первая половина 80-х.
Tags: заметки на полях, электроника
Subscribe

  • Post a new comment

    Error

    default userpic
    When you submit the form an invisible reCAPTCHA check will be performed.
    You must follow the Privacy Policy and Google Terms of use.
  • 13 comments