Читаю тут один относительно старый диссер, 1997 года, на тему субмикронных технологий при литографии СБИС, в частности там раздел про технологию микросхем памяти на ЦМД. Кто-нибудь ещё помнит этих мастодонтов?
И натыкаюсь на совершенно шикарное:
"Начало разработки и изготовления МИС на ЦМД предусматривало использование контактной оптической фотолитографии. Как известно, для этого необходимо создание промежуточного фотошаблона (ПФО) с использованием оптических генераторов изображения. Первый эмульсионный ПФО слой пермаллоя для 256 Кбит изготавливался на импортной фотонаборной установке в масштабе 10:1. Время экспонирования составляло 83 часа.
ПФО удалось изготовить лишь один раз с большим трудом и то в праздничные дни, исключив сбои от помех в сети."
Это про советские времена, если что. Начало разработки ЦМД, по моим оценкам - первая половина 80-х.
